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대만에 공급되는 주성의 Oxide TFT MO-CVD 장비가 출하식을 마치고 수출을 위해 선적항으로 출발하고 있다.
아주경제 이재영 기자 = 주성엔지니어링이 대만에 차세대 디스플레이 제조를 위한 핵심공정 장비를 공급한다.
회사측은 산화물(Oxide) TFT용 6세대급 장비인 이그조(IGZO) MO-CVD와 게이트 절연막(Gate Insulator)공정에 사용될 신개념 MO-CVD를 함께 출하했다고 9일 밝혔다.
Oxide MO-CVD는 초고선명(UHD), 투명, 플렉시블 및 OLED 디스플레이 기술에 최적화된 세계 최초 장비로, 기존 물리기상증착(PVD) 방식 대비 이동도가 3배 이상 증가하고 전력소모량 또한 20% 이상 저감되는 효과가 있다고 회사측은 설명했다.
또한 게이트 절연막 MO-CVD는 지금까지 사용해 오던 SiO2 물질을 대체함으로써 TFT의 신뢰성과 안정성을 획기적으로 개선해 열 증착 보다 뛰어난 막질을 구현할 수 있다는 설명이다. 이 장비는 게이트 절연막 공정 외 에치스탑 레이어(Etch Stop Layer: ESL) 및 패시배이션(Passivation), 베리어(Barrier)막 공정에도 적용 가능하다.
주성 관계자는 “디스플레이 제조공정 변화에 한발 앞서 준비했던 이번 제품의 출하를 시작으로 매출 부분에서도 큰 폭의 성과가 나타날 것으로 기대하고 있다”며 “올해 차세대 전략 제품들의 공격적인 신시장 개척을 통해 기업 성장을 이뤄나가는 데 모든 노력을 다 하겠다”고 말했다.
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