[NNA] 美 듀폰이 한국에서 EUV용 포토레지스트 생산

[산업통상자원부는 듀폰의 한국 투자가 확정되었다고 발표했다. 성윤모(가운데) 산업통상자원부 장관. = 8일(현지시간), 미 샌프란시스코 (사진=산업통상자원부 제공)]

미국 화학 기업 듀폰이 한국에 극자외선(EUV)용 포토레지스트 생산시설을 구축하는 것으로 9일 밝혀졌다. 한국의 산업통상자원부에 의하면, 듀폰은 2800만 달러(약 30억 4000만 엔)를 투입해 2021년까지 충청남도 아산시에 공장을 건설한다. 이미 대한무역투자진흥공사(KOTRA)에는 투자계획을 신고했다.

포토레지스트는 반도체 제조에 반드시 필요한 소재로, 실리콘 웨버 상에 회로를 형성할 때 사용된다. 일본 정부는 지난해 7월, 반도체 성능을 비약적으로 높이는 차세대 기술의 EUV용 포토레지스트의 수출관리를 엄격화했다. 지난해 말에 개별허가에서 (최장 3년간 개별허가가 필요하지 않은)특정포괄허가로 전환했으나, 한국 정부는 안정적인 조달을 위해 외자유치를 위해 노력해왔다. EUV용 포토레지스트는 일본이 취한 한국수출관리 엄격화 소재 3품목 중 국산화가 가장 어려운 품목이다.

업계 관계자에 의하면, 듀폰은 투자처로 한국보다 수요가 많은 타이완을 검토해왔으나, "한국의 수요가 더 커질 여지가 많다"고 판단했다고 한다.

다만 "듀폰은 후발주자이기 때문에 이 회사 제품으로 일본제품을 대체하는 것은 쉽지 않다"는 견해도 있다. 동 관계자는 "제품을 개발해 제조 라인에 투입하기까지 테스트를 여러번 거쳐야한다. 한국의 산업통상자원부의 발표는 탈일본의존이 진전되고 있는 것을 국민에 어필하기 위한 퍼포먼스적인 측면이 있는거 아닌가"라고 말했다.