표준과학연구원, 0.03㎚ 두께차이 구별기술 개발

(아주경제 권석림 기자) 한국표준과학연구원은 0.03㎚(나노미터.1㎚=10억분의 1ｍ)의 두께차이를 정확히 측정할 수 있는 초고속 다채널 분광 타원계측기를 개발했다고 16일 밝혔다.

이 계측기는 또 2000개의 데이터 스펙트럼을 측정하는 데 1천분의 9초밖에 걸리지 않아 기존 반도체 산업용 장비보다 5배 이상 빠르다.

당초 국내 주요 반도체 업체들은 반도체 및 디스플레이 분야에서 세계최고 수준의 기술력을 갖추기 위해 0.04㎚인 두께측정 정밀도를 2014년까지 0.03㎚로 낮추고 측정속도는 1.5배 높이는 것을 목표로 잡아왔다.

이번 표준과학연구원의 계측기 개발로 이 같은 목표가 정밀도에 있어서는 3년 앞당겨졌으며 측정속도에 있어서도 3배 이상 초과 달성했다.

표준학연구원은 이 기술에 대한 국내외 특허출원을 마치고 국내 계측기기 전문업체로의 기술이전을 추진중이다.

이 같은 연구성과는 광학분야 권위지인 ‘옵틱스 레터스(Optics Letters)’ 1월호에 소개됐다.