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주성엔지니어링 STD CVD.
주성엔지니어링이 개발에 성공한 싱글타입 STD CVD는 공간과 시간분할을 동시에 할 수 있는 반도체용 증착장비로 기존 화학증착(CVD) 및 원자층증착(ALD)뿐만 아니라, 질화, 산화, 도핑과 금속전극 증착 기능 등 다양한 공정 대응이 가능한 것이 가장 큰 특징이다.
특히 이 장비는 차세대 반도체공정의 효율성을 극대화하기 위해 단차피복성 및 막질이 우수한 물질을 새롭게 개발하는 등 기존 증착장비가 가지고 있던 한계를 극복했다.
또한 최대 10개까지 다수의 싱글 챔버를 통합할 수 있도록 제작돼 단위 시간당 생산량을 극대화하면서도 차세대 반도체 공정이 필요로 하는 증착, 식각, 세정 등 주요 프로세스 통합에도 최적화됐다는 평가다.
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