아주경제 한아람 기자 = 박성욱 SK하이닉스 사장이 10나노 후반대 D램 생산 시점에 대해 “올해 3분기에 테스트하고 준비해서 내년 초 쯤 생산에 들어갈 예정이다”라고 3일 밝혔다.
박 사장은 이날 서울 코엑스 인터컨티넨탈호텔에서 열린 2016년 한국반도체산업협회(KSIA) 이사회 및 정기총회에서 신임 협회장으로 선임된 후 취재진과 만나 이같이 밝혔다.
이로써 삼성전자와의 10나노 후반대 D램 격차가 딱 1년 차이로 좁혀질 것으로 보인다.
삼성전자는 올 1분기 이미 18나노 D램 양산에 돌입했다. 삼성전자와 SK하이닉스의 20나노 디램 양산 시기가 1년 6개월 정도 차이났던것과 비교하면 반년의 격차가 줄어든 셈이다.
48단 3D 낸드 플래시의 양산 시점에 대해서는 “올해 샘플을 보내고 결과를 기다리고 있어 하반기쯤 예상하고 있다”라며 “36단부터 한 다음에 경험을 쌓아 48단 공정에 돌입하겠다”라고 말했다.
한편 박 사장은 이날 한국반도체산업협회(KSIA)의 새로운 수장자리에 올랐다. 김기남 삼성전자 디바이스솔루션(DS)부문 반도체총괄 사장에 이어 제 10대 협회장에 선임됐다.
박 사장은 취임사를 통해 “한국 반도체산업은 중국의 추격, 신흥업체와 기존 선두 기업을 가리지 않는 공격적 M&A 등으로 위기에 직면해 있다”며 “임기 동안 우리 반도체 산업이 한 단계 성장하는데 기여하겠다”고 포부를 밝혔다.
이번 정기총회에서는 신규 임원진 선임도 이뤄졌다. 전영현 삼성전자 메모리사업부 사장이 협회 부회장으로 선임되고, 소자·장비·재료·설계 4부문별 28명의 회원사 대표이사가 임원으로 선임됐다. 전 협회장인 김기남 사장은 명예회장으로 위촉됐다.
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