​'소·부·장' 탈일본 속도낸다...최기영 장관 연일 R&D 현장방문

日수출규제 타격 큰 반도체 불화수소 R&D현장 집중 방문

소재·부품·장비 국산화 추진 현황 살피고 정책 지원 약속

​'소·부·장' 구원투수로 나선 최기영 과학기술정보통신부 장관이 취임과 동시에 소재·부품·장비 핵심 연구개발 현장을 연이어 방문하며 기술 주권 확보에 힘을 싣고 있다.

22일 과학기술정보통신부에 따르면 최 장관은 지난 20일 과기정통부 산하 연구기관인 한국화학연구원을 찾아 기초소재 연구개발(R&D) 현장 목소리를 들었다. 지난 18일 지능형 인공지능(AI) 반도체 기업 팹리스를 방문해 R&D 인력보강을 강조한 데 이어 두 번째 현장방문이다.

이번 방문에서 최 장관은 산학연 관계자들과 만나 단순 기술 확보가 아닌 기업에 기술을 이전해 최종 상용화에 이를수 있도록 산학연 기술협력을 강화해야 한다는 구상을 다시 한 번 강조했다.

한국화학연구원은 일본의 수출규제로 피해가 큰 반도체, 디스플레이 분야 핵심소재를 개발하고 있는 정밀화학 핵심 연구기관이다. 반도체 제조공정에 반드시 필요한 포토레지스트의 핵심소재인 광개시제를 개발해 민간기업에 기술이전 하는데 성공하기도 했다. 화학연구원을 출연연 중 가장 먼저 현장방문 장소로 낙점한것도 이 같은 경험에 큰 의미를 뒀다는 게 과기정통부의 설명이다.

이 자리에서 최 장관은 속도감 있는 결과 도출을 주문했다. 최 장관은 "우리가 지금 필요로 하는 소재.부품 연구는 조금 다른 관점에서 접근해야 한다"며 "각 기관, 연구원들께서 가능한 빠른 시간에 필히 성과를 내야 한다는 생각으로 연구개발에 임해 주시기를 간곡히 부탁드린다"고 말했다.

특히 그는 '노파심'이라는 단어를 직접적으로 언급하며 "소재·부품 분야 R&D 예산이 내년에 대폭 확대되는데 소중한 예산이 낭비되지 않고, 소기의 성과를 내도록 철저한 관리도 병행해달라"고 당부했다. 최근 논란이 확산한 일부 연구기관의 연구비 부정사용 문제를 의식한 발언으로 풀이된다.

최 장관은 취임 이전부터 일본 수출규제로 큰 타격을 입은 소재·부품·장비의 국산화를 최우선 과제로 꼽은 바 있다.

현재 일본이 수출규제 조치를 내린 포토레지스트(PR), 불화수소(에칭가스), 플루오린폴리이미드 등 3가지 소재는 모두 반도체와 디스플레이 패널 생산에 있어 필수적인 소재다. 플루오린 폴리이미드와 레지스트는 일본 의존도가 절대적이어서 국산화가 시급한 상황이다.

문 대통령은 지난 10일 최 장관을 임명함과 동시에 소재·부품 연구개발 현장인 한국과학기술연구원(KIST) 차세대반도체연구소에 동행해 "반도체 석학을 과기정통부 장관으로 모셨다"며 막중한 책임을 부여하기도 했다.  

한편, 과기정통부는 소재·부품·장비 분야 기초·원천 R&D 투자규모를 올해 약 1600억원 규모에서 내년 약 3000억원 규모로 대폭 확대할 예정이다. 특히 원천 기술이 사업화까지 도달할 수 있도록 산학연 연계를 강화한다는 계획이다.

 

최기영 과학기술정보통신부 장관이 20일 오후 대전광역시 유성구 한국화학연구원을 방문해 박인준 한국화학연구원 박사(맨 오른쪽)로부터 '불소고분자 제조 파일롯' 에 대한 설명을 듣고 있다[사진=과기정통부]