​[컨콜] SK하이닉스 "EUV 적용, 1a나노 외에도 1b나노 등 점진 확대"

SK하이닉스는 1일 진행한 2022년 4분기 실적 발표 컨퍼런스콜에서 “D램 업체들은 각 사 기술과 제품개발 등 생산전략에 맞춰 EUV(극자외선) 장비의 적용을 결정할 것으로 보인다”면서 “당사는 EUV 장비의 높은 투자비용과 관련 기술의 성숙이 이어지는 상황을 고려해 EUV 적용 효율성을 극대화하는 방향에 초점을 맞춰 업계 최고 수준의 EUV 생산성을 확보했다”고 설명했다.

그러면서 “1a나노미터(nm)에서 원가절감 효과가 가장 큰 공정에 EUV를 적용하고 있다”며 “EUV 적용을 어디까지 할 것인지 단언할 수 없으나 1bnm, 1cnm에서 EUV 적용 개수를 점차 늘려갈 계획”이라고 덧붙였다.
 

SK하이닉스의 10나노급 4세대 서버 D램 DDR5 [사진=SK하이닉스]