韓·日 특허청장, 6년 만에 만나 '지식재산' 현안 논의

양국 간 '특허공동심사' 협의 이어가기로

이인실 특허청장(오른쪽 다섯 번째)과 하마노 코이치 일본 특허청장(오른쪽 여섯 번째)이 지난달 31일 일본 도쿄에 위치한 일본 특허청에서 열린 한일 특허청장 회의에서 기념 촬영을 하고 있다. [사진=특허청]

한일 특허청장 회의가 6년 만에 재개됐다.

1일 특허청에 따르면 이인실 특허청장은 지난달 31일 일본 도쿄에 위치한 일본 특허청에서 하마노 코이치 일본 특허청장과 만나 지식재산 분야 현안과 향후 협력방안을 논의했다. 

양국 청장은 인공지능, 사물인터넷, 메타버스 등 신기술 발전과 기후변화 대응 등 지속가능발전목표(SDGs) 실현을 위한 혁신 중요성이 커지는 가운데 지식재산 제도 관련 상호협력 필요성을 인식했다. 

△상표·디자인 심사, 심판, 정보화, 심사관 역량 강화 등 분야 실무협의체 재가동 △양청 간 심사관 교류 △녹색기술(Green Technology) 관련 특허분류체계 구축을 위한 노하우 공유 등에도 합의했다. 

또 신속하고 정확한 특허심사 서비스 제공을 위해 '특허공동심사(CSP)'에 대한 실무 논의를 이어가기로 했다. CSP가 실현되면 양국에서 같은 발명을 출원할 때, 양국 심사관이 선행기술조사 결과를 공유해 빠르게 심사할 수 있게 된다. 

이 청장은 올해 하반기 한국에서 대면으로 열리는 한·중·일 특허청장회의에 일본 특허청장 방한을 공식 요청하기도 했다. 양 청은 성공적인 회의 개최를 위해 긴밀한 협력을 약속했다. 

회의는 2017년 이후 6년 만에 열린 것으로, 한일 양국에서 잇따라 열린 정상회담으로 '셔틀 외교'가 복원되는 시점에서 지식재산 분야 고위급 회의가 재개됐다는 점에서 의미가 크다. 

이 청장은 "이번 회의를 계기로 햔일 양청이 다양한 분야에서 협력하며 양국 지식재산 발전에 기여하길 바란다"며 "선진 글로벌 지식재산 시스템 구축에도 함께 앞장설 수 있길 기대한다"고 말했다.