DB하이텍, '2500억' 규모 반도체 클린룸 확장 투자

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우주성 기자
입력 2024-10-11 19:38
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    DB하이텍이 2500억원 수준의 반도체 제조 공정용 클린룸에 대한 확장 투자에 나선다고 11일 공시했다.

    이번 확장 투자는 향후 반도체 업황 회복에 대비해, 준비된 클린룸을 통해 생산장비를 즉각 투입하고 기회손실을 막기 위한 조치로 풀이된다.

    신규 클린룸 조성 시 8인치 웨이퍼 기준으로 월 3만5000장 규모의 수요에 대응할 수 있는 인프라가 갖춰진다.

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DB하이텍 CI 사진연합뉴스
DB하이텍 CI. [사진=연합뉴스]
DB하이텍이 2500억원 수준의 반도체 제조 공정용 클린룸에 대한 확장 투자에 나선다고 11일 공시했다.
 
공시에 따르면 DB하이텍은 충북 음성 상우공장(팹2)의 유휴공간에 시스템반도체 생산 인프라를 추가로 구축할 방침이다.
 
이번 클린룸 확장은 다음 달 기본 설계에 들어가 내년 말게 완공될 예정이다. 2026년부터는 생산장비를 투입해 웨이퍼 등의 양산에 나설 것으로 전망된다.
 
이번 확장 투자는 향후 반도체 업황 회복에 대비해, 준비된 클린룸을 통해 생산장비를 즉각 투입하고 기회손실을 막기 위한 조치로 풀이된다. 신규 클린룸 조성 시 8인치 웨이퍼 기준으로 월 3만5000장 규모의 수요에 대응할 수 있는 인프라가 갖춰진다. 현재의 15만4000장 대비 23% 가량 생산능력이 늘어나는 셈이다.
 
DB하이텍은 “이번 투자는 작년 말 발표한 경영혁신 계획 투자전략 실행의 일환이며, 앞으로도 경영혁신 계획 이행과 함께 중장기 지속 성장을 위한 노력을 아끼지 않을 것”이라고 전했다.

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